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滑式真空炉CVD系统 详细摘要: 滑式真空炉CVD系统由滑动式开启式真空管式炉,混气系统,真空及压力系统等组成。此系统烧结温度可达1200℃,通过滑动炉体来实现快速的升降温
产品型号:S-1200HZ-CVD 所在地:郑州市 更新时间:2023-12-22 参考价: 面议 在线留言 -
混合气体化学气相沉积CVD系统 详细摘要: 混合气体化学气相沉积CVD系统由高温管式炉,真空压强控制系统,多通道高精度数字质量流量控制系统,过压保护及冷凝等部分组成,可实现真空达0.1mbar混合气体化学...
产品型号:S-1200S-CVD 所在地:郑州市 更新时间:2023-12-22 参考价: 面议 在线留言 -
CVD浮子混气系统 详细摘要: CVD浮子混气系统适用于高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备,生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用
产品型号:S-1700S-CVD 所在地:郑州市 更新时间:2023-12-22 参考价: 面议 在线留言 -
石墨烯管式炉(石墨烯CVD炉) 详细摘要: 管式炉+真空系统+供气系统+水冷系统组成,温度可以达到1200度,可以是单温区、双温区、三温区等,极限真空可以达到10-3Pa
产品型号:S-1200PC 所在地:郑州市 更新时间:2023-12-22 参考价: 面议 在线留言 -
双温区CVD实验室设备 详细摘要: 双温区PECVD实验室设备由滑动式快速退火管式炉+真空系统+供气系统组成,温度可以达到1400度,极限真空可以达到10-3Pa,供气系统是流量调节可以是质子流量...
产品型号:S-1400PC 所在地:郑州市 更新时间:2023-12-22 参考价: 面议 在线留言 -
三温区cvd实验室设备 详细摘要: 三温区PECVD实验室设备由单温区管式炉、真空系统、质子流量计、射频电源系统系统组成PECVD设备是借助于光放电等方法产生等离子体
产品型号:S-1700PC 所在地:郑州市 更新时间:2023-12-22 参考价: 面议 在线留言